一、报告人简介：

        张勇，电气学院电器与电子可靠性研究所博士研究生，导师为梁慧敏教授，研究方向为磁控溅射技术。

二、报告内容简介：

        1.参加人员：张月，谢春峰等同学。

        2.会议的主要内容：包括研究背景、单质镀层生成技术、合金及多层镀层生成技术和应用验证四部分。报告完成后，与会人员与报告人展开了激烈的讨论。

三、讨论内容：

        会议中讨论了磁控溅射的基本原理、溅射参数对镀层特性的具体影响等问题。

四、需要完善、改进的地方：

 1.应当给出镀层特性与单个参数之间具体关系表达式。

五、会议现场：

                              

六、国内外相关技术前沿：